但是，当事关国度存亡存亡的时候，这些题目另有需求考虑吗？
这是弱者的一种保存战略。
“你说i线光刻胶的前提不成熟，是指甚么？”高凡问道。
徐云说他有好几位教员上课时候都提过摩尔定律，高凡天然是要表示敬佩的。只是以他的身份，摆出如许一副嘴脸来嘉奖中科大，徐云如何能不对他表示一番鄙夷。
光刻技术，遵循利用的光源分歧，能够分为很多类，或者称为分歧代际也能够。
“徐师兄，我听毕主任说，你们正在研讨的是G线光刻胶。对于i线以及KrF光刻胶，你们有没有触及？”高凡问道。
上世纪60年代，光刻技术方才呈现的时候，利用的是浅显的可见光光源，当时候的光刻机实在就是拿一个大灯胆晖映掩膜板，和拍照馆里冲刷照片没啥辨别。
“既然你晓得摩尔定律，那么你想想看，芯片制造技术将会以甚么样的速率生长？G线光刻机必定很快就会后进，下一代i线光刻机遇敏捷提高。不出十年，市场支流就会是KrF光刻机。”高凡侃侃而谈。
徐云在内心默想了一下，点点头道：“你说得有理，不过，这也是国际市场的潮流吧？我们海内现在连G线光刻机都没能把握，你说的KrF，如何也得是20年今后的事情了。”
高凡对于国度的团体战略并不非常体味，但在他从云中明那边听到“光致抗蚀剂”这个词的时候，他就产生出了一个动机：
或许，本身能够做一些事情。
枫林研讨所研讨的很多技术，都具有如许的特性。比拟西方国度而言，这些技术均匀要掉队一至两代，即便送给别人，人家也不屑一顾。
可这并不料味着枫林研讨所的保密轨制就是多余的。保密的目标在于让敌手不清楚我们的研讨进度到了哪一步，不管对方高估或者低估了我们的程度，都会在疆场博弈或者经济博弈中犯下一些或大或小的弊端，而这些弊端，能够就会成为我们的机遇。
但是，国度却仍然向枫林研讨所下达了研制光刻胶的任务，其目标就是为了万一遭碰到外洋的封闭，海内本身也能够供应出合用的光刻胶，确保少数干系国度安然的集成电路的出产不受影响。
此时的中国，在环球半导体市场上美满是小透明，底子不具有批评半导体财产生长的资格，是以也就没甚么人会存眷和提及摩尔定律。
听到高凡的题目，徐云也只能把内心那些邪念抛开，当真地答道：“我们现在研讨的重点，就是G线光刻胶，这也是目前利用最遍及的。
摩尔定律是1965年提出的，不过直到70年代中期才遭到人们的正视。跟着集成电路技术的迅猛生长，摩尔定律一再获得印证，一时候在西方科技界和财产界倍受推许。
“i线光刻胶这方面，毕主任在尝试室集会上提过几次，让大师偶然候做一些堆集，不过目前前提还不成熟。再至于说KrF光刻胶，仿佛外洋也方才开端研讨吧？”
90年代以后，呈现了利用准分子激光器的248纳米、193纳米和157纳米光源，别离称为KrF、ArF和F2光源，属于深紫外光源。
再至于被誉为“皇冠上的明珠”的EUV光刻机，利用的是13.3纳米的极紫外光源，它的呈现时候已经要算到2010年以后了。