嗯，仿佛也不错......
能够带领IBM公司的光刻工艺制程团队攻坚的人物，环球范围以内，敢说专精于此项技术的毫不超越十人，林本坚则是在这排名当中很靠前的神级人物。
如此直白地表达，开阳那边如果还感受不出来，虞有澄这CEO也差未几能够直接下课算了。
而财产界一向要利用好几十年的“深紫外线光源”技术，则是这位大佬在1975年所做出，在当时是光刻技术最短波长的光芒。
真正让光刻机冲破微米为单位的期间，实际还是位华裔人士：林本坚。
演讲台上的倪光南对半导体集成电路制程工艺表示有限悲观，这实际也不能算是完整没事理，乃至连英特尔公司的初级研讨职员也指出：
不过这位的论点是安身于将来芯片体积不竭缩小，晶体管数量不竭倍增，终究会带来措置器庞大的发热题目，导致芯片“热灭亡”。
但就实际而言，林本坚、白斯文、孟怀英、倪光南，这四人职位实在都算同一层次。
没有管台下反应，此次来ISSCC大会，还在美国佬的地盘砸场子，直接摆明车马要怼美国半导体行业巨人英特尔公司，质疑人家行业顶级大佬所留下的金科玉律，并且还是接受住了时候磨练的那种。
当前这类首要依托半导体工艺技术进级，从而实现不竭增加晶体管数量，晋升措置器机能的体例还并不稳定。
开阳半导体公布了很多科研项目，这些苏联团队挑选是否接办，要真决定做的话，就直接进驻科研大楼，各方面都对比外洋科研团队划一候遇来。
顶级半导体集成电路加工工艺，实际就是人类不竭地寻求对物理质料极限加工，而这类寻求极限加工才气的做法，向来都是风险庞大。
如果不肯意接办，就只能再持续等着看，归正以开阳半导体的气力，要赡养这些人还是没题目的，就算它们只吃干饭都没事，把这些初级人才养成猪、养废，也一样算是直接打击了别的同业获得这些人才的能够。
遵循汪正国同虞有澄、林本坚，另有包含海内刚搀扶起来的两大光刻机厂商一起坐下来筹议的成果，林本坚将全面卖力开阳半导体出产工艺改革事情，名誉上是仅次于倪光南总工。
那么现在这位面就不一样了，诸如台电这类单位，它比起更加金光闪闪的开阳半导体来讲，的确就是弱鸡好不好。
还更不消说IBM公司本就和开阳半导体算是一条战壕内里，关于开阳半导体公司的大抵环境，林本坚所知还真不要太少，在传闻开阳方面卡在了0.5微米工艺时候，便主动提出能够供应技术方面的咨询。
拉沙现在还没有做出缔造性的技术，中间梁孟松也是如此，以是这两人间隔最顶尖四位大佬还差那么半级，今后只能渐渐等候机会到了以后，只要能搞出大消息，天然能顺利晋升到第一梯队。
要说这类环境吧，倒是跟几十年后大学教员在台上讲课，然背景下浩繁门生各种千奇百怪姿式很一样，但教员却内心毫无颠簸，乃至还能倒背圆周率，更兼打算转头应当给那些门生挂科。
十年以内，也就是在2000年摆布让光刻机冲破0.1微米，以西欧这些科研职员来做，仿佛全都是走干式光刻机台门路，这难度还真不是普通的大。